高集積化対応ポリシングマシン
☆ベースプレートに装着したシリコンウェーハ等を、高精度かつ高能率にポリシングする装置です。
☆φ8インチウェーハの高精度・高能率ポリシングが可能です。
☆ターンテーブルは0~50rpmまで無段階にダイヤルひとつで変速可能でかつ、クッションスタート装置を装備してありますのでウェーハにダメージを与えることはありません。
☆研磨荷重は、デットウェイト方式の為4軸間の荷重変動がありません。(5%以内)
☆搬出アームを取り付けることにより、ベースプレートの自動搬出ができ、自動化対応の推進も可能となります。