SPM-11
化合物半導体ポリシングマシン
☆ベースプレートに装着したシリコンウェーハ等を、高精度かつ高効率にポリシングする機械です。
☆ターンテーブルは0~70rpmまで無段階にダイヤルひとつで変速可能でかつ、クッションスタート装置を装備してありますのでウェーハにダメージを与える事はありません。
☆研磨荷重は、デットウェイト方式の為4軸間の荷重変動がありません。(5%以内)
☆ベースプレートは本体フレーム前面一ケ所より搬入・搬出・脱着できる為、作業者の動作範囲も小さく、かつ装置スペースをおさえることができます。
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